EU Binding Tariff Information
 HS Code : | 9031.41 | |
|---|
 CN Code : | 9031.41.••.•• | |
|---|
BTI Reference :
Issuing Country : NETHERLANDS
Date Of Issue : 09.Apr.2026 - 08.Apr.2029
laser-produced plasma (LLP) EUV source, an optically working machine with laser-produced plasma (LPP) for obtaining extreme ultraviolet light (EUV), consisting of 2 functional units: optical and auxiliary unit; uses a rapidly rotating liquid metal target and works with an extreme ultraviolet light source
Description auto translated : A so-called laser-produced plasma (LLP) EUV source, being an optically working machine with a source based on laser-produced plasma (LPP) for obtaining extreme ultraviolet light (EUV) with, among others, the following composition and characteristics:
- for exposing the light-sensitive wafer layer for mask and surface inspections, pattern mask inspections (PMI), area mask inspections (AIMS), blank mask inspections (MBI), wafer inspection and EUV optical element inspection;
- consisting of 2 functional units, an optical and auxiliary unit;
- the optical unit is enclosed in a housing of base metal panels with electrical locking and equipped with:
- - bearing module with rotating disk that can rotate rapidly as a target for a focused laser beam;
- - vacuum chamber in which the disk rotates, consists of 2 parts the bottom and top which are interconnected by a conical housing for the output of EUV radiation, includes the following flanges and fittings:
• turbomolecular pump line;
• diversion between the bottom and top;
• an input of the laser radiation;
• an output of EUV radiation;
• connection of the heating system inductor to the electrical supply;
• a supply for water cooling of the bearing housing;
• means for diagnosing device parameters such as EUV radiation, pressure, and temperature;
• an added active ingredient of liquid tin alloy;
- - tin dosing module;
- - induction heating system for contactless heating of the rotating disc;
- - laser with a wavelength of 1 064 nm of class 4 and a pulse duration of 1 ns ± 0.5 ns;
- - optical module consists of:
• 6 mirrors with anti-reflective coatings at the laser wavelength;
• 3 lenses;
• light beam splitter;
• variable beam expander with a magnification of 2 × — 8 × at 1 064 nm, which expands the laser beam from an initial diameter of 3 mm to 20 mm;
• photodiode sensor for laser radiation;
- - optics protection system, including gas (argon) countercurrent system, magnets and CNT carbon nanotube membranes;
- - vacuum flange for connecting the light source to the optical scheme of the machine;
- - system status sensors;
- - with dimensions of 822 x 820 x 1510 mm and a weight of 470 kg;
- the auxiliary unit contains a base metal housing with doors, support and control systems for the optical unit and is equipped with;
- - turbo and back pump for vacuum systems that maintains vacuum in the vacuum chamber of the optical units;
- - water cooler for the optical units in which water circulates in a closed circuit;
- - water cooler for the laser separately;
- - gas system in the pressure regulators for the optics protection system, based on argon countercurrent;
- - electrical panel;
- - control panel;
- - with dimensions of 1034 x 651 x 1918 mm and a weight of 490 kg;
- uses as a source a rapidly rotating liquid metal target;
- works with an extreme ultraviolet light source;
- the maximum power of the laser is 400 Watts;
- a solid angle of 0.05 sr;
- a pulse repetition frequency of 0-90 kHz;
- a plasma size of 60 μm;
- uses a power of 11 kW.
Original Description: Een zogenoemde laser-geproduceerd plasma (LLP) EUV-bron, zijnde een optisch werkende machine met een bron gebaseerd op door een laser geproduceerd plasma (LPP) voor het verkrijgen van extreem ultraviolet licht (EUV) met onder andere de volgende samenstelling en kenmerken:
- voor het belichten van de lichtgevoelige waferlaag voor inspecties van masker en oppervlakken, patroonmaskerinspecties (PMI), gebiedsmaskerinspecties (AIMS), blanco maskerinspecties (MBI), wafer-inspectie en EUV optiekelementen-inspectie;
- bestaande uit 2 functionele eenheden, een optisch- en hulpeenheid;
- de optische eenheid is omsloten door een behuizing van panelen van onedel metaal met elektrische vergrendeling en voorzien van:
- - lagermodule met draaiende schijf die snel kan ronddraaien als doel voor een gerichte laserstraal;
- - vacuümkamer waarin de schijf ronddraait, bestaat uit 2 delen de onder- en bovenkant die zijn onderling verbonden door een kegelvormige behuizing voor de uitvoer van EUV-straling, omvat de volgende flenzen en hulpstukken:
• turbomoleculaire pompleiding;
• omleiding tussen de onder- en bovenkant;
• een invoer van de laserstraling;
• een uitvoer van EUV-straling;
• aansluiting van de inductor van het verwarmingssysteem op de elektrische voeding;
• een toevoer voor waterkoeling van de lagerbehuizing;
• middelen voor het diagnosticeren van de parameters van het hulpmiddel zoals EUV-straling, druk, en temperatuur;
• een toegevoegde werkstof van vloeibare tinlegering;
- - tindoseringsmodule;
- - inductieverwarmingssysteem voor contactloze verwarming van de draaiende schijf;
- - laser met een golflengte van 1 064 nm van klasse 4 en een pulsduur van 1 ns ± 0.5 ns;
- - optische module bestaat uit:
• 6 spiegels met antireflectiecoatings bij de lasergolflengte;
• 3 lenzen;
• lichtbundelsplitter;
• variabele bundelexpander met een vergroting van 2 × — 8 × bij 1 064 nm, die de laserbundel uitbreidt van een begindiameter van 3 mm tot 20 mm;
• fotodiodesensor voor laserstraling;
- - optiekbeschermingssysteem, inclusief gas (argon) tegenstroomsysteem, magneten en CNT koolstofnanobuis-membranen;
- - vacuümflens voor het aansluiten van de lichtbron op het optische schema van de machine;
- - sensoren voor de systeemstatus;
- - met een afmeting van 822 x 820 x 1510 mm en een gewicht van 470 kg;
- de hulpeenheid bevat een behuizing van onedel metaal met deuren, ondersteunings- en besturingssystemen voor de optische eenheid en is voorzien van;
- - turbo-en rugpomp voor vacuümsystemen dat vacuüm vasthoudt in de vacuümkamer van de optische units;
- - waterkoeler voor de optische eenheden waarin water circuleert in een gesloten circuit;
- - waterkoeler voor de laser afzonderlijk;
- - gassysteem in de drukregelaars voor het optiekbeschermingssysteem, gebaseerd op argon-tegenstroom;
- - elektrisch paneel;
- - bedieningspaneel;
- - met een afmeting van 1034 x 651 x 1918 mm en een gewicht van 490 kg;
- gebruikt als bron een snel roterend doel van vloeibaar metaal;
- werkt met een extreem ultraviolette lichtbron;
- het maximaal vermogen van de laser is 400 Watt;
- een ruimtehoek van 0,05 sr;
- een puls-herhalingsfrequentie van 0-90 kHz;
- een plasmagrootte van 60 μm;
- gebruikt een vermogen van 11 kW.
Source : EU Binding Tariff Information
source link :